集成电路布图设计保护条例（2026年修订）

中华人民共和国国务院令

第842号

《集成电路布图设计保护条例》已经2026年7月10日国务院第91次常务会议修订通过，现予公布，自2026年10月15日起施行。

总理　李强

2026年7月23日

集成电路布图设计保护条例

（2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布　2026年7月23日中华人民共和国国务院令第842号修订）

第一章　总 则

第一条　为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展，制定本条例。

第二条　集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署，提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平。

第三条　本条例下列用语的含义：

（一）集成电路，是指以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；

（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；

（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者非法人组织；

（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。

第四条　中国自然人、法人或者非法人组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人、外国企业或者外国其他组织创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人、外国企业或者外国其他组织创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。

第五条　申请布图设计登记或者办理其他布图设计事务，可以自行办理，也可以委托依法设立的专利代理机构办理。

在中国没有经常居所或者营业所的外国人、外国企业或者外国其他组织在中国申请布图设计登记和办理其他布图设计事务的，应当委托依法设立的专利代理机构办理。

专利代理机构应当遵守法律、行政法规，按照被代理人的委托办理布图设计登记申请或者其他布图设计事务；对被代理人布图设计中未公开的内容，负有保密责任。

第六条　受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。

第七条　本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

第八条　国务院知识产权行政部门负责全国的布图设计专有权有关管理工作。